Projekti / Programi
Študij tankih kovinskih filmov na pospeševalniku Elettra
Koda |
Veda |
Področje |
Podpodročje |
1.02.01 |
Naravoslovje |
Fizika |
Fizika kondenzirane materije |
Koda |
Veda |
Področje |
P250 |
Naravoslovno-matematične vede |
Kondenzirane snovi: struktura, termične in mehanske lastnosti, kristalografija, fazno ravnovesje |
P260 |
Naravoslovno-matematične vede |
Kondenzirane snovi: elektronska struktura, električne, magnetne in optične lstnosti, supraprevodniki, magnetna rezonanca, relaksacija, spektroskopija |
Fizika površin, sinhrotronsko sevanje, rentgenski uklon, elektronska spektroskopija, tanki filmi
Organizacije (2)
, Raziskovalci (2)
0106 Institut "Jožef Stefan"
št. |
Evidenčna št. |
Ime in priimek |
Razisk. področje |
Vloga |
Obdobje |
Štev. publikacijŠtev. publikacij |
1. |
11546 |
dr. Dean Cvetko |
Fizika |
Vodja |
2002 - 2004 |
214 |
2. |
15703 |
dr. Janez Kovač |
Elektronske komponente in tehnologije |
Raziskovalec |
2002 - 2004 |
723 |
1534 ITPO, inštitut za tehnologijo površin in optoelektroniko
Povzetek
Raziskovalni projekt obsega eksperimentalne raziskave na področju fizike površin in tankih filmov s komplementarno uporabo sinhrotronske svetlobe na pospeševalniku Elettra in konvencionalnega laboratorija za sipanje He atomov na površinah. Projekt predvideva študij strukture, kolektivne dinamike, elektronskih stanj in morfologije tankih filmov na žarkovnih linijah ALOISA in ESCAMICROSCOPY na tržaškem sinhrotronu ELETTRA, kakor tudi meritve sipanja termičnih atomov He na in-situ pripravljenih nanometričnih filmih. Posebno pozorno nameravamo proučiti rast tankih filmov železa, svinca, kositra, in indija na različnih polprevodniških in kovinskih substratih, kjer kvantizacija elektronskih stanj znotraj filma in strukneujemanje s substratom igrata pomembno vlogo. Uporabiti nameravamo metodo sipanja rentgenskih žarkov in uklon fotoelektronov v okviru raziskav na Aloisi, oziroma neelastično sipanje termičnih helijevih atomov v okviru laboratorija TASC-INFM. Spektromikroskopske meritve faznih mej na heterogenih sistemih nameravamo opraviti na žarkovni liniji Escamicroscopy.